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Dr. Jan Gerkens

Design of Metal-Organic Molecular Precursors for Atomic Layer Deposition

- Atomic layer deposition: Challenges and opportunities
- Synthesis and characterization of a new series of low-valent cobalt amido complexes
- Identification of promising cobalt containing precursors for atomic layer deposition...
• Georg-August Universität Göttingen • Buch (Gebunden) • Dissertation • Englisch • Softcover (Paperback) • 21,0 x 14,8 cm (DIN A5) • XII / 143 Seiten • Neu (eingschweißt in Folie)
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  • 9783863761820
  • 978-3-86376-182-0
In past decades, miniaturization of materials was immanent in all fields of technology,... mehr

In past decades, miniaturization of materials was immanent in all fields of technology, especially in semiconductor industry. Nowadays, miniaturization of semiconducting compounds reached a level where established manufacturing processes reach their technical limits. Atomic Layer Deposition (ALD) offers an alternative method for the deposition of ultra-thin metallic films, which is a crucial step in the fabrication of semiconducting compounds. Based on a chemical reaction between surface and gas phase, ALD is a process which touches both synthetic chemistry and material sciences.
This PhD thesis focuses on the development of new chemicals for the use as precursor in ALD. Within a research and development cooperation with BASF, the properties of a new series of cobalt and nickel silylamido complexes in solution, in the solid state and in the gas phase are studied and evaluated with respect to their use as ALD precursor. Furthermore, deposition experiments of tantalum and molybdenum chalcogenides were performed to test the application of ALD in the field of electrochemical water splitting.

Titel: Design of Metal-Organic Molecular Precursors for Atomic Layer Deposition
Untertitel: - Atomic layer deposition: Challenges and opportunities
- Synthesis and characterization of a new series of low-valent cobalt amido complexes
- Identification of promising cobalt containing precursors for atomic layer deposition...
Autor: Dr. Jan Gerkens
Auflage: 1. Auflage
Hochschule: Georg-August Universität Göttingen
Erschienen: 1. Aufl. 21.12.2020
Fachbereich: Chemie
Produkttyp: Buch (Gebunden)
Produktart: Dissertation
Sprache: Englisch
Einband: Softcover (Paperback)
Maße: 21,0 x 14,8 cm (DIN A5)
Umfang: XII / 143 Seiten
Zustand: Neu (eingschweißt in Folie)
Details "Design of Metal-Organic Molecular Precursors for Atomic Layer Deposition"
Titel: Design of Metal-Organic Molecular Precursors for Atomic Layer Deposition
Untertitel: - Atomic layer deposition: Challenges and opportunities
- Synthesis and characterization of a new series of low-valent cobalt amido complexes
- Identification of promising cobalt containing precursors for atomic layer deposition...
Autor: Dr. Jan Gerkens
Auflage: 1. Auflage
Hochschule: Georg-August Universität Göttingen
Erschienen: 1. Aufl. 21.12.2020
Fachbereich: Chemie
Produkttyp: Buch (Gebunden)
Produktart: Dissertation
Sprache: Englisch
Einband: Softcover (Paperback)
Maße: 21,0 x 14,8 cm (DIN A5)
Umfang: XII / 143 Seiten
Zustand: Neu (eingschweißt in Folie)
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